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近日，深圳新凯来工业机器有限公司在其官微告示，将在3月底干涉中国海外半导体展。这亦然该公司的初次亮相。
新凯来告示将在半导体展上发布多款新址品，包括EPI“峨眉山”居品、ETCH“武夷山”居品、CVD“长白山”居品、PVD“普陀山”居品、ALD“阿里山”居品，这些居品不错说齐是半导体制造工艺范畴的“高端货”。分析东说念主士以为，新凯来有可能再度拉高中国科技的热度。
新凯来在其官微称，行动中枢半导体装备提供商，新凯来以技艺改革为根基，尽力于于先进半导体装备的开发与制造，为产业注入强劲动能。天眼查走漏，新凯来工业机器背后大鞭策是新凯来技艺有限公司，而新凯来技艺的蜿蜒大鞭策是深圳市首要产业投资集团，其董事长戴军亦是国度大基金二期的监事，亦然中芯海外集成电路制造（深圳）有限公司的董事。
行将亮相
在新凯来官微上，只消一条讯息：新凯来邀您共赴SEMICON China 2025。这家奥密且低调的中国高技术产业链上的贫苦公司终于要走向台前。而况，新凯来将在这次亮相中展出重磅居品。
据悉，这次新凯来将展出EPI“峨眉山”居品、ETCH“武夷山”居品、CVD“长白山”居品、PVD（普陀山）居品、ALD“阿里山”居品等居品。EPI外延层是半导体制造中的贫苦技艺丁香五月花，尤其是在先进制程和第三代半导体范畴。ETCH蚀刻是半导体制造工艺，微电子IC制造工艺以及微纳制造工艺中的沿路畸形贫苦的步骤。是与光刻相相关的图形化（pattern）处理的一种主要工艺，当今主要由海外主头主导；CVD化学气相千里积是半导体制造中需求量最大的开采之一，PVD物理气相千里积、ALD原子层千里积等齐是半导体制造工艺当中独特贫苦的高端货。
低调的专利大户
此前，新凯来的曝光度独特低。网上大无数讯息齐是其专利信息。3月18日，国度学问产权局信息走漏，深圳市新凯来工业机器有限公司苦求一项名为“反射结构、热辐照单位及加热安装”的专利，公开号CN 119620268 A，苦求日历为2025年1月。 小黑屋 调教
专利提要走漏，该苦求触及光学开采技艺范畴，尤其触及到一种反射结构、热辐照单位及加热安装。反射结构具有容纳槽，容纳槽具有第一侧壁、第二侧壁和与所述第一侧壁和所述第二侧壁贯穿的底壁，所述第一侧壁包括第一抛物面，所述第二侧壁包括第二抛物面，所述底壁包括第三抛物面，所述第三抛物面的焦距离别大于所述第一抛物面的焦距和所述第二抛物面的焦距。本苦求中的反射结构占用的空间较小，且反射结构反射并集聚光芒的量较多，以提高反射结构的加热成果。
昨年12月，国度学问产权局信息走漏，深圳市新凯来技艺有限公司苦求一项名为“静电卡盘及工艺开采”的专利，公开号CN 119069414 A，苦求日历为2024年11月。
专利提要走漏，本苦求触及工艺开采技艺范畴，尤其触及到一种静电卡盘及工艺开采。静电卡盘包括基底、第一绝缘介质层和第二绝缘介质层，第一绝缘介质层建树于基底上，第二绝缘介质层建树于第一绝缘介质层背离基底的一侧；其中，第一绝缘介质层内具有至少一个电极对，每个电极对包括一个正电极和一个负电极，第二绝缘介质层和第一绝缘介质层在基底的投影中，第二绝缘介质层的投影至少部分与一个电极对的投影交叠；第二绝缘介质层的电阻率小于第一绝缘介质层的电阻率。本苦求中的静电卡盘名义蚁合的净电荷开释速较快，不错缩小待加工器件从卡盘名义脱离的难度。
谁是新凯来？
干涉上述展览的公司是新凯来工业机器有限公司，而其大鞭策是深圳市新凯来技艺有限公司和深圳市均隆高新产业创业投资中心。新凯来工业机器和新凯来技艺的法定代表东说念主齐是余海。
据新凯来技艺的官网走漏，该公司尽力于于半导体装备及零部件、电子制造开采的研发、制造、销售与作事。为半导体行业客户提供改革技艺与居品搞定决策，执续支试验业健康发展。将国内最优秀的电子制造搞定决策和出产测试装备推介给行业客户，促进产业智商教养。
公司中枢团队具备20年以上电子开采技艺开发造就，并意想了繁密国内半导体制造开采和零部件协作伙伴，为国内半导体开采厂、FAB厂、电子电器开采厂、商讨机构提供先进的搞定决策，相关居品粗拙专揽于国内顶级制造企业和商讨、测试机构。
据天眼查，新凯来工业机器建筑于2022年，注册老本跨越10亿元东说念主民币。而新凯来技艺建筑于2021年，企业注册老本达15亿元东说念主民币，其大鞭策是深圳市深芯恒科技投资有限公司（控股100%），而深芯恒科技的大鞭策是深圳市首要产业投资集团有限公司（控股100%），首要产业投资集团的大鞭策则是深圳国资委。首要产投的董事长戴军是国度集成电路产业投资基金二期股份有限公司的监事，亦然中芯海外集成电路制造（深圳）有限公司的董事。首要产投的另一位高管黄秀章则是中芯海外集成电路制造（深圳）有限公司的监事。不错说，新凯来大鞭策层面的产业布景实在是畸形深厚。
责编：政策恒
排版：刘艺文
校对：王蔚
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